真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。ST系列鍍膜機(jī)ST系列鍍膜機(jī)系我司標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品，滿足大部分實(shí)驗(yàn)室科研需求，豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。

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蒸發(fā)鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時(shí)間，厚度大小

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

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鍍膜機(jī)操作程序

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。

① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。

② 打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。

③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

⑤ 落下鐘罩。

⑥ 啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。

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真空鍍膜機(jī)檢漏

要承認(rèn)漏氣究竟的虛漏仍是實(shí)漏，因?yàn)楣ぜY料加熱后都會(huì)在不同程度上發(fā)生氣體，有也許誤以為是從外部流進(jìn)的氣體，這即是虛漏，要掃除這種狀況。

第二，測驗(yàn)好真空室的氣體密封功能，確保氣密功能符合要求。

第三，查看漏孔的巨細(xì)，形狀、方位，漏氣的速度，制備出可處理方案并施行。

第四，斷定檢查儀器的1小可檢漏率和檢漏靈敏性，以1大規(guī)模的檢查出漏氣狀況，防止一些漏孔被疏忽，進(jìn)步檢漏的準(zhǔn)確性。

第五，掌握檢漏儀器的反應(yīng)時(shí)刻和消除時(shí)刻，把時(shí)刻掌握好，確保檢漏儀器作業(yè)到位，時(shí)刻少了，檢漏作用必定差，時(shí)刻長了，糟蹋檢漏氣體和人工電費(fèi)。

第六，還要防止漏孔阻塞，有時(shí)因?yàn)椴僮魇д`，檢漏過程中，一些塵?；蛞后w等把漏孔阻塞了，以為在該方位沒有漏孔，但當(dāng)這些阻塞物因?yàn)閮?nèi)外壓強(qiáng)區(qū)別進(jìn)步或別的緣由使漏孔不堵了，那漏氣仍是存在的。

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